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報告解讀 | 光子引線鍵合(PWB)與玻璃通孔(TGV)賦能AI光互聯(lián)

2025-05-15

AI大模型、數(shù)據(jù)中心和智能算力快速發(fā)展的背景下,高帶寬、低功耗、低時延的光互聯(lián)正逐步取代傳統(tǒng)電互聯(lián),成為下一代基礎(chǔ)設(shè)施的關(guān)鍵。5月15日在武漢光博會“光芯片封裝測試技術(shù)研討會”上,凌云光公司光纖器件與儀器事業(yè)部CTO張華博士,帶來《面向AI光互聯(lián)的光電子集成先進(jìn)封測工藝探討》專題報告,全面解析了AI驅(qū)動下光電子集成的趨勢變化與關(guān)鍵工藝突破。

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AI時代新挑戰(zhàn):光互聯(lián)亟需突破四重挑戰(zhàn)

隨著AI大模型的參數(shù)規(guī)模呈指數(shù)級增長,GPU集群間的數(shù)據(jù)交換與存儲需求急劇上升,現(xiàn)有網(wǎng)絡(luò)架構(gòu)難以支撐這一趨勢。張華博士指出:AI算力集群對網(wǎng)絡(luò)互聯(lián)提出“高帶寬、高可靠、低延遲、低功耗”的四重挑戰(zhàn),促使行業(yè)加速邁向光電子集成化方向。未來,CPO(光電共封)和OIO(光輸入/輸出)等方案有望成為支撐超大規(guī)模集群互聯(lián)的關(guān)鍵技術(shù),推動數(shù)據(jù)中心從“連接”走向“光速協(xié)同”。

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先進(jìn)封裝雙箭齊發(fā):PWB+TGV協(xié)同突破在應(yīng)對高速光互聯(lián)芯片封裝的復(fù)雜需求中,凌云光重點布局了兩項核心工藝:光子引線鍵合(PWB)與玻璃通孔(TGV)。首先是光子引線鍵合(PWB),PWB技術(shù)通過3D激光直寫光刻,將光纖與芯片之間復(fù)雜的空間對準(zhǔn)轉(zhuǎn)化為“波導(dǎo)內(nèi)有線連接”,不僅突破了耦合精度與效率瓶頸,還能實現(xiàn)高密度封裝、自動化量產(chǎn)和秒級耦合。該技術(shù)已通過Telcordia系列環(huán)境測試,并在哈佛大學(xué)、住友電工等機構(gòu)得到驗證應(yīng)用。

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其次是玻璃通孔(TGV)技術(shù)。張華博士提到,TGV作為替代硅通孔的方案,尤其適合高速信號傳輸場景。在成孔方案上,凌云光采用“飛秒激光誘導(dǎo)改性 + 化學(xué)刻蝕”復(fù)合工藝,配合WOP FemtoTGV系統(tǒng),實現(xiàn)了10μm級高縱深比、高精度的通孔結(jié)構(gòu),支持從晶圓級到大面板級的高密度互聯(lián),并已拓展至光纖對準(zhǔn)陣列等新應(yīng)用場景。

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賦能光速互聯(lián),凌云光在路上

賦能光速互聯(lián),凌云光在路上報告最后,張博強調(diào)AI時代正以前所未有的速度重塑底層架構(gòu),光電子集成與先進(jìn)封裝的協(xié)同創(chuàng)新,已成為打造低功耗、高效率、高密度連接平臺的必由之路。PWB和TGV這類先進(jìn)封測工藝,不僅提升了封裝密度與性能,也為低功耗、高效率、高集成度的光互聯(lián)架構(gòu)提供了可規(guī)模化落地的技術(shù)路徑。凌云光將繼續(xù)發(fā)揮在光學(xué)加工、精密制造與智能視覺領(lǐng)域的深厚積累,推動光電子產(chǎn)業(yè)鏈的關(guān)鍵環(huán)節(jié)不斷向“更高密度、更低成本、更強穩(wěn)定”演進(jìn)。

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2025武漢光博會于5月15-17日在光谷科技會展中心召開,同期凌云光將攜光電子集成測試方案及業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的測試設(shè)備出席POEM 2025,期待各位行業(yè)同人蒞臨凌云光展位交流指導(dǎo)!